特許

J-GLOBAL ID：200903058195181423

光学薄膜およびその製造方法

発明者： 横山 晃彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-273511
公開番号（公開出願番号）：特開平9-085874
出願日： 1995年09月27日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：

【要約】【課題】 光学薄膜の内部応力を低減して基板の曲がりや膜剥れを防ぐ。【解決手段】 光学薄膜は2は、基板1上に交互に積層された複数層の高屈折率材料の薄膜10と低屈折率材料の薄膜20を有し、各薄膜10,20は、その成膜中に成膜方法を変えるかあるいは同じ成膜方法で成膜条件を変えて成膜された下半部11,21と上半部12,22を有し、各薄膜10,20内で上半部11,21の内部応力と下半部12,22の内部応力が圧縮応力と引張応力の組み合わせになるように成膜される。

請求項（抜粋）：

基体に成膜された少なくとも1層の薄膜を有し、該薄膜の内部応力が、その膜厚方向に圧縮応力から引張応力またはこの逆に変化していることを特徴とする光学薄膜。

IPC (6件)：

B32B 7/02 103 ,  B32B 7/02 101 ,  C23C 14/06 ,  G02B 1/00 ,  G02B 1/11 ,  G02B 5/08

FI (6件)：

B32B 7/02 103 ,  B32B 7/02 101 ,  C23C 14/06 P ,  G02B 1/00 ,  G02B 5/08 ,  G02B 1/10 A