特許
J-GLOBAL ID：200903058230759018
クリーンルーム
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-003107
公開番号（公開出願番号）：特開平8-189681
出願日： 1995年01月12日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【目的】 クリーンルームにおける清浄空間7と搬送空間8との基板の受渡し時に搬送空間8側の汚染空気の巻上げを無くし、受渡し中の基板の汚染を防いで半導体装置の製造歩留りを向上させる。【構成】 清浄空間7と搬送空間8との間で基板の受渡しを行っていないときは、開口部5は扉6により閉鎖する。清浄空間7と搬送空間8とを仕切るアイリッド4は清浄空間7の余剰空気が搬送空間8に流れる空間を確保できるように、所定幅に亘ってグレーチング3から上方に所定高さまで開放してなる気流調整窓10を形成する。アイリッド4は半導体製造装置1の前面から所定距離だけ離したところに設置する。清浄空間7にULPAフィルタ2を通して供給された清浄空気を半導体製造装置1の周辺で層流となって流してグレーチング3から排気する。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置を設置する清浄空間と、前記半導体製造装置によって処理される半導体基板を輸送する搬送空間と、前記清浄空間及び搬送空間の間に配置され、両空間を仕切るアイリッドとを具備し、前記アイリッドには、前記清浄空間及び搬送空間の間で基板の受渡しを行う開口部と、該開口部の開閉を行う扉と、前記清浄空間及び搬送空間の間を連通する気流調整窓とが設けられており、前記清浄空間の気流速が搬送空間の気流速よりも速く設定されていることを特徴とするクリーンルーム。
IPC (2件)：
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