特許
J-GLOBAL ID：200903058231121068
複数の高さを有する微細パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-170117
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029220
出願日： 1993年07月09日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】 光ディスク原盤の製造等のフォトリソグラフィープロセスにおいて、複数の高さを有する微細パターンを形成することを目的とする。【構成】 フォトレジスト2の形成された基材1の表面に、基材1からフォトレジスト2への臨界角より大きい角度にて、基材1の裏側面から光を照射し、基材1よりフォトレジスト2へしみだした光によって露光し、現像する。この露光の際に、光の入射角度あるいは波長を変化させることにより、高さの異なった露光パターンを形成することができる。
請求項（抜粋）：
複数の高さを有する微細パターンの形成方法であって、基材表側表面に、感光性物質層を形成する工程、記録光の基材表面に対する入射角をθ、基材から感光性物質へ光を入射する際に全反射する臨界角をθ<SB>c</SB>としたとき、θ<SB>c</SB><θ<π(rad)の範囲でθを変化するように、基板裏側面より記録光を照射し、記録光のうちの基材から感光性物質へしみだす光によって、感光性物質を露光する工程、感光部以外を除去する現像工程からなる、複数の高さを有する微細パターンの形成方法。
IPC (2件)：
G11B 7/26 501
, G11B 7/24 561
