グリッドリフレクタの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-171126
公開番号（公開出願番号）：特開平8-037418
出願日： 1994年07月22日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：

【要約】【目的】宇宙の熱的環境において変形が小さく、かつ軽量な周波数再利用型のグリッドリフレクタを得る。【構成】可撓性を有するフィルム基材上に始めに無電解めっきにおいてフィルムに対する密着力の弱い導体材料を選択し、この導体材の薄い層を形成し、しかる後に電解めっきにより所望の厚さの導体層を形成する方法によって得られたフレキシブル基板を用い、パターニング処理を行ってグリッドを形成し、あらかじめリフレクタ曲面を有する剛体型上に積層した繊維強化複合材料のプリプレグの面にグリッド側を下にして密着させ、共に加熱・加圧成形した後フィルム基材をはぎ取ることにより曲面を持つスキン上にグリッドパターンのみを転写・形成する。

請求項（抜粋）：

フレキシブルフィルム上に密着力の弱い金属を無電解めっきする工程、このフィルム上に無電解めっきとは異なる金属を電解めっきしてフレキシブル基板を得る工程、このフレキシブル基板にグリッドパターンをパターニングする工程、このパターニングされたパターニングフィルムを誘電体スキンのプリプレグにグリッドを対向させて密着し、プリプレグとともに加熱・加圧成形する工程、成形品より金属グリッドパターンをスキンに転写してフィルムを除去する工程を含むグリッドリフレクタの製造方法。

IPC (3件)：

H01Q 15/14 , C25D 7/08 , H01Q 1/28

引用特許：

審査官引用 (35件)

特公平4-018532
特開平4-006907
特開平4-192903

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