特許
J-GLOBAL ID:200903058260407485

基板保持装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 義雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-044232
公開番号(公開出願番号):特開平11-233597
出願日: 1998年02月12日
公開日(公表日): 1999年08月27日
要約:
【要約】【課題】 基板の撓みの発生を防止し、パーティクルの発生を抑制することができる基板保持装置。【解決手段】 ウェハWの中央部分は真空吸着によって中央保持部81に保持され、ウェハWの周辺部分は周辺支持部材88に支持されておらず、ウェハWの周辺は重力でわずかに撓む。円板状部材87すなわち周辺支持部材88を上側の支持位置に移動させて、中央保持部81の上端面の高さと各周辺支持部材88の上端面の高さとを一致させる。これにより、ウェハW全体が平坦に支持される。次に、周辺支持部材88による真空吸着を開始して、ウェハWの周辺部も吸着保持する。次に、ウェハWをステージ8とともに水平面内で適当な観察位置に移動させる。
請求項(抜粋):
基板の一部分を保持する保持部材と、前記基板の一部分とは異なる他の部分を部分的に支持する支持部材とを備える基板保持装置。

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