特許

J-GLOBAL ID：200903058265065027

結晶欠陥評価方法及び装置

発明者： 高橋 淳 ,  川上 和人
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 矢葺 知之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085566
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272340
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】 ウェハ等の結晶欠陥の形状、方位、サイズを正確に計測する方法及び装置を提供する。【解決手段】 レーザー光を結晶に入射させ結晶表面及び内部からの散乱光を検出する結晶欠陥評価方法であって、形状効果を取り入れたレーリー散乱に基づくデータ処理法を用いる結晶欠陥評価方法、及びそのための装置である。

請求項（抜粋）：

レーザー光を結晶に入射させ結晶表面及び内部からの散乱光を検出する結晶欠陥評価方法であって、欠陥形状効果を取り入れたレーリー散乱に基づくデータ処理法を用いることを特徴とする結晶欠陥評価方法。

IPC (3件)：

G01N 21/49 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/956

FI (3件)：

G01N 21/49 Z ,  G01B 11/30 A ,  G01N 21/956 A

Fターム (27件)：

2F065AA49 ,  2F065BB13 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065EE03 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065LL04 ,  2F065LL32 ,  2F065MM11 ,  2G051AA51 ,  2G051AB06 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB01 ,  2G051CA01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC20 ,  2G059AA05 ,  2G059BB16 ,  2G059GG01 ,  2G059GG04 ,  2G059JJ19 ,  2G059KK02 ,  2G059MM01