特許

J-GLOBAL ID：200903058267075283

研磨方法及び研磨装置並びに磁気記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体

発明者： 宮本 武美
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-376603
公開番号（公開出願番号）：特開2000-185927
出願日： 1998年12月23日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】【課題】 簡便な方法及び装置でガラス基板の内周端面及び/又は外周端面を平滑に研磨でき、ガラス基板表面の高清浄化を高いレベルで達成しうる研磨方法及び研磨装置等を提供する。【解決手段】 中心部に円孔を有する円板状のガラス基板(MD基板1)の内周端面部分等に、遊離砥粒を含有した研磨液50を供給するとともに、前記ガラス基板の内周端面等に研磨ブラシ(回転ブラシ4)を回転接触させて研磨する。

請求項（抜粋）：

中心部に円孔を有する円板状のガラス基板の内周端面部分及び/又は外周端面部分に、遊離砥粒を含有した研磨液を供給するとともに、前記ガラス基板の内周端面及び/又は外周端面に研磨ブラシ又は研磨パッドを回転接触させて研磨することを特徴とする研磨方法。

IPC (6件)：

C03B 23/08 ,  B24B 9/00 601 ,  B24B 9/08 ,  B24B 29/00 ,  C03C 19/00 ,  G11B 5/84

FI (6件)：

C03B 23/08 ,  B24B 9/00 601 J ,  B24B 9/08 C ,  B24B 29/00 F ,  C03C 19/00 A ,  G11B 5/84 A

Fターム (38件)：

3C049AA06 ,  3C049AA07 ,  3C049AA09 ,  3C049AA18 ,  3C049AB04 ,  3C049AB08 ,  3C049AC04 ,  3C049CA01 ,  3C049CA06 ,  3C049CB02 ,  3C049CB03 ,  3C049CB05 ,  3C049CB10 ,  3C058AA06 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA18 ,  3C058AB04 ,  3C058AB08 ,  3C058AC04 ,  3C058CA01 ,  3C058CA06 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058CB05 ,  3C058CB10 ,  3C058DA17 ,  4G015BB05 ,  4G059AA09 ,  4G059AB03 ,  4G059AB19 ,  4G059AC03 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112GA02 ,  5D112GA04 ,  5D112GA10 ,  5D112GA14

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 円環状ディスクのブラシ研磨方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-222033   出願人：株式会社八紘エンジニアリング