特許

J-GLOBAL ID：200903058285363571

気相成長方法

発明者： 池田 英治 ,  荒巻 聡
出願人/特許権者： 株式会社日鉱共石
代理人 (1件)： 並川 啓志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-349399
公開番号（公開出願番号）：特開平5-160048
出願日： 1991年12月09日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：

【要約】【構成】 気相成長装置の反応管を成長時の温度以上に昇温し、所定時間保持した後、降温して該反応管内に付着した反応析出物を気化し、除去するベ-キング工程において、該反応管内に発熱用カ-ボン製治具を設置してベ-キングする。【効果】 気相成長において反応管内壁から剥離した反応析出物に起因するエピタキシャル薄膜の表面欠陥を低減することができる。

請求項（抜粋）：

気相成長装置の反応管を成長時の温度以上に昇温し、所定時間保持して該反応管内に付着した反応析出物を気化し、除去するベーキング工程において、該反応管内に発熱用カ-ボン製治具を設置してベ-キングすることを特徴とする気相成長方法。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C30B 25/02 ,  C30B 25/10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-004609
  
• 特開昭60-196932