特許

J-GLOBAL ID：200903058288876200

デバイス製造装置および方法

発明者： 佐藤 義行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-330947
公開番号（公開出願番号）：特開平8-161013
出願日： 1994年12月09日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：

【要約】【目的】 ユーザにおけるパラメータの変更回数を少なくし、かつパラメータの設定ミスを防ぐ。【構成】 デバイス製造装置のオペレータをいくつかのグループ31に分けてこれらのグループを登録、記録し、各グループ毎にパラメータ21のリミット値やデフォルト値33〜35を登録し、前記製造装置を操作する際、操作しているオペレータのグループを参照し、製造装置の動作およびパラメータ設定に前記登録したリミット値やデフォルト値を反映させる。

請求項（抜粋）：

装置の操作を行なうオペレータをいくつかのグループに分け、そのグループ分けを登録、記憶する手段と、パラメータのリミット値やデフォルト値として前記グループ毎に異なった値を登録する手段と、装置立ち上げ時に現在操作しているオペレータのグループを認識する手段と、装置立ち上げ後の装置の動作やパラメータ設定にそのオペレータグループのリミット値やデフォルト値を反映する手段を有することを特徴とするデバイス製造装置。

IPC (3件)：

G05B 19/05 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G05B 19/05 L ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 516 Z