分子パターン複製方法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-002087
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211957
出願日： 1994年01月13日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：

【要約】【目的】超微細な線幅の複製品を短時間に大量製造し得る分子パターンの複製方法を提供する。【構成】所定極性の単分子がパターン状に配列形成された基板表面に該極性と一致または不一致の極性分子からなる転写層を載置して所定パターンを形成し、次いでこの基板表面に被転写体を接触させることにより転写層からなるパターンを被転写体に転写することを特徴とする分子パターン複製方法。

請求項（抜粋）：

所定極性の単分子がパターン状に配列形成された基板表面に該極性と一致または不一致の極性分子からなる転写層を載置して所定パターンを形成し、次いでこの基板表面に被転写体を接触させることにより前記転写層からなるパターンを前記被転写体に転写することを特徴とする、分子パターン複製方法。

引用特許：

審査官引用 (16件)

特開昭62-293242
特開昭63-096655
特開昭63-161628

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