特許
J-GLOBAL ID：200903058292715947
露光における間隙測定装置および間隙測定方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-012538
公開番号（公開出願番号）：特開2001-203148
出願日： 2000年01月21日
公開日（公表日）： 2001年07月27日
要約：
【要約】【課題】 露光装置において被露光基板とフォトマスクとの間隔を正確に、かつ、安価に測定することのできる間隙測定装置および間隙測定方法を提供する【解決手段】 フォトマスク102に設けられる間隙測定用マーク103の位置に対する、基板101に映り込む投影間隔測定用マークの像103aの位置をCCDカメラを用いて画像データとして取込み、演算装置により画像処理計算する。その結果、間隙測定用マーク103と投影間隔測定用マーク103aとの相対的位置関係に基づいて、間隔調整装置によりフォトマスク102と基板101との間隔を所定の値に正確に調節する。
請求項（抜粋）：
フォトマスクを通して露光光を基板に照射することにより、前記フォトマスクに描かれたパターンを前記基板上に転写する露光装置において、前記フォトマスクと前記基板との間隙を測定し、その測定データに基づいて前記フォトマスクと前記基板との間隙を所定の値に調節するための間隙測定装置であって、前記フォトマスクは、前記基板に対向する面の所定位置に間隙測定用マークを有し、前記間隙測定用マーク、及び前記間隙測定用マークを含む領域に対して光が照射されることによって、前記基板面に映る前記間隙測定用マークの像を検出するための少なくとも1つの光センサと、前記間隙測定用マークに対する前記間隙測定用マークの像の相対的位置関係に基づいて、前記フォトマスクと前記基板との間隙を算出する演算手段と、前記演算手段の算出結果に基づいて前記フォトマスクと前記基板とを相対的に移動させることにより、前記フォトマスクと前記基板との間隙を所定の値に調節する間隙調整手段と、を備える間隙測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 9/00 Z
, H01L 21/30 511
2H097GA45
, 2H097KA12
, 2H097KA20
, 5F046BA02
, 5F046DA17
, 5F046DB05
, 5F046EA04
, 5F046EB02
, 5F046EC03
, 5F046ED01
, 5F046FA05
, 5F046FA10
, 5F046FB10
