特許
J-GLOBAL ID：200903058293232320

低融点ガラス及びその作製方法

発明者：
矢野 太一

矢野 太一 について


出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-158654
公開番号（公開出願番号）：特開2005-336018
出願日： 2004年05月28日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が発生せず、かつ可視光透過率の高い低融点ガラスが望まれている。【解決手段】透明絶縁性の低融点ガラスにおいて、重量%で表してそのガラス組成に、SiO2を10〜27、B2O3を0.5〜7、PbOを50〜70、ZnOを1〜15含み、さらに必須成分としてCuOを0.01〜1、MnO2を0.01〜1含む、イオン交換水を用いた湿式粉砕工程を経て、粉砕加工されたことを特徴とする、低融点ガラス。また、30μm厚の全光線可視光透過率が80%以上であり、かつ直線可視光透過率が60%以上であることを特徴とし、500〜600°Cで焼成後の、銀電極基板におけるb*値が7.0以下である特徴も有す。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
透明絶縁性の低融点ガラスにおいて、重量%でSiO2を10〜27、B2O3を0.5〜7、PbOを50〜70、ZnOを1〜15含み、さらに必須成分としてCuOを0.01〜1、MnO2を0.01〜1含む、イオン交換水を用いた湿式粉砕工程を経て、粉砕加工されたことを特徴とする、低融点ガラス。
IPC (1件)：
C03C8/10
FI (1件)：
C03C8/10
Fターム (60件)：
4G062AA08 ,  4G062AA09 ,  4G062BB04 ,  4G062CC08 ,  4G062DA04 ,  4G062DB01 ,  4G062DC02 ,  4G062DC03 ,  4G062DD01 ,  4G062DE03 ,  4G062DE04 ,  4G062DF06 ,  4G062EA01 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EG01 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH04 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH10 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM23 ,  4G062MM25 ,  4G062NN26 ,  4G062NN34
引用特許：
出願人引用 (3件)

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