特許
J-GLOBAL ID：200903058293436049
光学用成形品
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-152532
公開番号（公開出願番号）：特開平5-341104
出願日： 1992年06月12日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】本発明では、耐摩耗性被膜を有し、かつ、耐候性のよい光学用成形品を提供することを目的とする。【構成】光学用基材上に1〜300ナノメートルの微粒子状無機物を含む耐磨耗性被覆を形成し、その上に1.470以下の屈折率を有する酸化ケイ素薄膜を形成した。
請求項（抜粋）：
光学用基材と、前記光学用基材の上に形成された1〜300ナノメートルの微粒子状無機物を含む耐磨耗性被覆と、前記耐摩耗性被覆上に形成された1.470以下の屈折率を有する酸化ケイ素薄膜とからなることを特徴とする光学用成形品。
IPC (2件)：
前のページに戻る
