特許
J-GLOBAL ID：200903058295794295
レーザ加工光学装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-153277
公開番号（公開出願番号）：特開平7-009181
出願日： 1993年06月24日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：
【要約】【目的】マスク転写方式のレーザ加工装置において、レーザ光の偏光を利用することによりマスクからの反射光を再びマスクに照射し、レーザ光の利用効率を向上させること。【構成】レーザ発振器とマスクの間の光軸上に偏光分離素子と波長板を設け、レーザ光の偏光を分離してマスクに照射し、マスクからの反射光の偏光面を波長板により90°回転させることによりマスクからの反射光を再びマスク面に照射する光学系。【効果】レーザ光を用いた有機物等の加工法において、レーザ光の利用効率が高く、ひいては加工能率が向上する。
請求項（抜粋）：
加工すべきパターンを形成したマスクと、この加工パターンを試料に転写するための投影光学系からなるレーザ加工装置において、レーザ光源とマスクの間の光軸上にレーザ光の偏光を分離する光学素子と波長板とを設けたことを特徴とするレーザ加工光学装置。
IPC (2件)：
前のページに戻る
