特許

J-GLOBAL ID：200903058319970685

薄膜構造の評価方法

発明者： 矢野 史子
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-227584
公開番号（公開出願番号）：特開平8-094555
出願日： 1994年09月22日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【目的】 本発明の目的は、X線の照射により固体表面から飛び出す光電子強度の検出角度依存性を測定し、試料構造を仮定して求めた光電子強度の検出角度依存性の計算結果と比較することにより、極薄膜の膜厚、膜厚ゆらぎ、被覆率等を定量的に求める方法を提供することである。【構成】 はじめに薄膜試料表面から飛び出した光電子の検出角度依存性を測定する。次に、構造モデル、構造パラメータを用いて仮定した試料構造に基づき、光電子強度の検出角度依存性を計算する。両者が一致する構造を求めることで、試料の構造を推定し、極薄膜の膜厚、膜厚ゆらぎ、被覆率等を定量的に評価する。

請求項（抜粋）：

第一部材とその上に形成された第二部材からなる試料にX線を照射し、この時に試料から飛び出す光電子を複数の異なる検出角度で検出する工程と、検出された第一部材と第二部材からの光電子強度の比を算出し、蓄積する工程と、概第二部材の形状を仮定することにより第一部材と第二部材からの光電子強度の比を実際に検出を行なった検出角度ごとに計算して求める工程と、測定結果と計算結果の差を求め、その差が目標値よりも小さいか否かを判定する工程と、上記差が目標値よりも大きい場合に仮定した概第二部材の形状を変化させて計算をやり直し、上記差が目標値よりも小さくなるまで繰り返す工程と、上記差が目標値よりも小さい場合に、仮定した第二部材の形状が真の第二部材の形状に近いとして、第二部材の厚さの不均一性や非平坦性を定量的に求める工程を備えたことを特徴とした薄膜構造の評価方法。