特許
J-GLOBAL ID:200903058333140199

Co/Ni人工格子膜、磁気抵抗素子、磁気ヘッド、磁気記録媒体およびCo/Ni人工格子膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中尾 俊輔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-075377
公開番号(公開出願番号):特開平5-315135
出願日: 1991年04月08日
公開日(公表日): 1993年11月26日
要約:
【要約】[目的] 種々の磁気的特性に優れた薄膜状のCo/Ni人工格子膜、このCo/Ni人工格子膜を利用した磁気抵抗効果の優れた磁気抵抗素子および磁気ヘッドや磁気記録媒体ならびに前記Co/Ni人工格子膜の製造方法を提供する。[構成] Co/Ni人工格子膜はCo層とNi層とが交互に積層されている薄膜層部分を有することを特徴としており、磁気抵抗素子、磁気ヘッドおよび磁気記録媒体はそれぞれ前記Co/Ni人工格子膜を構成要素とし、Co/Ni人工格子膜の製造方法はイオン・ビームスパッタ法を利用してCo/Ni人工格子膜を製造することを特徴とする。
請求項(抜粋):
Co層とNi層とが交互に積層されている薄膜層部分を有することを特徴とするCo/Ni人工格子膜。
IPC (4件):
H01F 10/16 ,  G11B 5/147 ,  G11B 5/66 ,  G11B 5/85
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭57-130003
  • 特開昭57-114874

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