特許

J-GLOBAL ID：200903058355229991

フロンの分解処理方法

発明者： 菅野 周一 ,  荒戸 利昭 ,  山下 寿生 ,  小豆畑 茂 ,  玉田 慎 ,  加藤 明
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-026439
公開番号（公開出願番号）：特開平8-215566
出願日： 1995年02月15日
公開日（公表日）： 1996年08月27日
要約：

【要約】【目的】フロンを、有害物を生成させることなく、効率良く無害化する処理方法を提供する。【構成】洗浄用フロンを分解処理する方法は、窒素ガス1を触媒層に流しながら、触媒を電気炉により加熱する。次にこの窒素ガスに、処理するフロンモル数の5倍量以上の水素2を添加して触媒層へ導入する。その後このガスに、ガス化したフロン3を約3%濃度となるように添加してフロンを分解し、分解生成ガス4なるメタン,塩化水素,フッ化水素等をアルカリ性溶液中に吹き込んで中和して酸成分を無害化する。

請求項（抜粋）：

フロンを分解処理する分解工程,分解生成物を中和無害化する中和工程の複数の工程からなるフロン分解処理方法において、フロンを、水素を含む還元雰囲気中で分解することを特徴とするフロン分解処理方法。

IPC (6件)：

B01J 23/30 ZAB ,  A62D 3/00 ,  B01D 53/70 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 23/66 ,  B01J 23/68

FI (6件)：

B01J 23/30 ZAB A ,  A62D 3/00 ,  B01J 23/66 A ,  B01J 23/68 A ,  B01D 53/34 134 E ,  B01D 53/36 ZAB G