特許
J-GLOBAL ID：200903058357393187
気相成長装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-033298
公開番号（公開出願番号）：特開平7-245265
出願日： 1994年03月03日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 気相成長装置に関し、成長室の下方に在って、温度が低くなっているフランジに、前記のような残留物が堆積することを防止し、基板の着脱時に、基板が汚染されることがないように、また、フランジの清掃を頻繁に行う必要がないようにし、作業能率の向上を図ろうとする。【構成】 成長室21内に基板加熱台26を支持すると共に第一の冷却管28と第二の冷却管29を内包した基板支持台25を配置し、基板支持台25の気相成長室21内に面した外周に筒状の排気管27を設け、排気管27の表面に着脱自在の筒状の多重メッシュ・フィルタ30とを設ける。
請求項（抜粋）：
気相成長室内に配置され基板加熱台を支持すると共に冷却管を内包した基板支持台と、前記基板支持台の前記気相成長室内に面した外周に設けた筒状の排気管及び前記排気管の表面に設けた着脱自在の筒状のメッシュ・フィルタとを備えてなることを特徴とする気相成長装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/44
, H01L 21/31
