特許

J-GLOBAL ID：200903058361030609

マイクロレンズまたはマイクロレンズ金型の作製方法、それに用いるマイクロレンズ用またはマイクロレンズ金型用基板

発明者： 八木 隆行 ,  手島 隆行 ,  島田 康弘
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-077022
公開番号（公開出願番号）：特開2000-271940
出願日： 1999年03月23日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】光の利用効率の高く、マイクロレンズアレイの品質ばらつきが小さく製造が容易な、マイクロレンズまたはマイクロレンズ金型の作製方法、それに用いるマイクロレンズ用またはマイクロレンズ金型用基板である。【解決手段】マイクロレンズまたはマイクロレンズ金型の作製方法は、導電性部を有する基板1を用い、基板1上に絶縁性マスク層3を形成する工程、絶縁性マスク層3に開口部4を形成する工程、絶縁性マスク層3の上に、隣接する開口部4を隔てる絶縁性隔壁6を形成する工程、電着により、開口部4を通じて開口部4及びマスク層3上に電着層5を形成する工程を有する。

請求項（抜粋）：

マイクロレンズまたはマイクロレンズ金型の作製方法であって、導電性部を有する基板を用い、(1)前記基板上に絶縁性マスク層を形成する工程、(2)前記絶縁性マスク層に開口部を形成する工程、(3)前記絶縁性マスク層の上に、隣接する開口部を隔てる絶縁性隔壁を形成する工程、(4)電着により、開口部を通じて開口部及びマスク層上に電着層を形成する工程の少なくとも(1)〜(4)の工程を有することを特徴とするマイクロレンズまたはマイクロレンズ金型の作製方法。

IPC (5件)：

B29C 33/38 ,  B29D 11/00 ,  G02B 3/00 ,  B29K 79:00 ,  B29L 11:00

FI (3件)：

B29C 33/38 ,  B29D 11/00 ,  G02B 3/00 A

Fターム (14件)：

4F202AA40 ,  4F202AG05 ,  4F202AH74 ,  4F202CA03 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F213AA40 ,  4F213AG05 ,  4F213AH74 ,  4F213WA03 ,  4F213WA32 ,  4F213WA39 ,  4F213WB01 ,  4F213WC02