特許

J-GLOBAL ID：200903058363948808

超音波成膜装置

発明者： 戸田 耕司
出願人/特許権者： 戸田 耕司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-287735
公開番号（公開出願番号）：特開平7-116575
出願日： 1993年10月22日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】【目的】 超音波励振器により発生させた弾性振動により溶液を霧化し、その霧を基板に噴霧することによりその霧に含まれる物質から成る薄膜を基板に形成する超音波成膜装置を提供する。【構成】 圧電振動子1と、振動板2とから成る複合体を自励式の駆動回路5を用いて駆動させると圧電振動子1が振動し、その振動は振動板2に伝搬される。保液材4と接触する振動板2の下面に供給された溶液は振動板2の振動に伴い振動板2に設けられている孔11を通して霧化される。その霧は基板に噴霧され、その溶液中の成分で成る薄膜がその基板に形成される。【効果】 薄膜の膜厚や配向性の制御ができ、構造が簡単で、小型軽量、低消費電力駆動を可能にする。

請求項（抜粋）：

圧電振動子に多数の微小な貫通孔を有する振動板を固着してなる超音波励振器を少なくとも1つ備え、該超音波励振器により発生させた弾性振動により溶液を霧化し、その霧を基板の一方の板面に噴霧し、前記霧に含まれる物質から成る薄膜を前記板面上に形成する超音波成膜装置において、前記薄膜を前記板面上に形成する手段は前記薄膜の膜厚を制御する手段および前記薄膜の配向性を制御する手段を含み、前記膜厚制御手段および前記配向性制御手段は、前記霧の温度、前記霧の粒径および前記霧の量を制御する手段と、前記霧が付着した前記基板を所定の温度および圧力のもとにおく手段を含むことを特徴とする超音波成膜装置。