特許
J-GLOBAL ID:200903058366683961

AlGaAs系半導体レーザ素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梅田 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-141439
公開番号(公開出願番号):特開平10-335735
出願日: 1997年05月30日
公開日(公表日): 1998年12月18日
要約:
【要約】【課題】 p型クラッド層のn反転を防ぎ、動作電流の少ない半導体レーザ素子を得る。【解決手段】 n型基板上に、少なくとも、Siドープn型クラッド層、活性層、第1のZnドープp型クラッド層、及び電流ブロック層をMOCVD法により成長させ、前記電流ブロック層にストライプ状の溝を形成した後、第2のp型クラッド層を再成長させた半導体レーザ素子であって、前記電流ブロック層はSeドープn型第1電流ブロック層と、Siドープn型第2電流ブロック層とが順に形成されてなることによる。
請求項(抜粋):
n型基板上に、少なくとも、Siドープn型クラッド層、活性層、第1のZnドープp型クラッド層、及び電流ブロック層をMOCVD法により成長させ、前記電流ブロック層にストライプ状の溝を形成した後、第2のp型クラッド層を再成長させた半導体レーザ素子であって、前記電流ブロック層はSeドープn型第1電流ブロック層と、Siドープn型第2電流ブロック層とが順に形成されてなることを特徴とするAlGaAs系半導体レーザ素子。

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