特許
J-GLOBAL ID：200903058374315599
シリコンナノパーティクルのパターニング方法及びこの方法に用いる有機分子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平山 一幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-159710
公開番号（公開出願番号）：特開2002-353436
出願日： 2001年05月28日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
要約：
【要約】【課題】 シリコンナノパーティクルをサブマイクロメーターの精度でパターニングする方法及び自己組織化単分子膜の表面にSiナノパーティクルを選択吸着させる方法、並びにこの方法に用いる有機分子を提供する。【解決手段】 マイクロコンタクトプリンティング法によって、基板5上に、サブマイクロメーターの精度でパターニングされた自己組織化膜6を形成し、シリコンナノパーティクル7を基板5上に供給し、サブマイクロメーターの精度で、シリコンナノパーティクル層をパターニングする。
請求項（抜粋）：
マイクロコンタクトプリンティング法により、パターニングされた自己組織化膜を基板上に形成し、この基板上にシリコンナノパーティクルを供給し、上記自己組織化膜がシリコンナノパーティクルを吸着しないことを利用してパターニングすることを特徴とする、シリコンナノパーティクルのパターニング方法。
IPC (2件)：
H01L 29/06 601
, H01L 33/00
H01L 29/06 601 N
, H01L 33/00 A
