特許
J-GLOBAL ID:200903058387146370

冷却用通路を有する円筒状構造の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 生沼 徳二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-166927
公開番号(公開出願番号):特開平10-115425
出願日: 1997年06月24日
公開日(公表日): 1998年05月06日
要約:
【要約】【課題】複雑な内部冷却通路を有するガスタービン構造を製造する方法を提供する。【解決手段】内壁、通路形成手段、通路充填犠牲手段、及び外壁からなる二重壁集成体を組立て、内壁と外壁とは互いに相補的であり、両者の間に配置され接触する通路形成手段により隔てられて少なくとも一つの通路を画成し、通路充填犠牲手段は通路形成手段に相補的であり、少なくとも一つの通路を充填するために通路形成手段内に配置されて、二重壁集成体が実質的に中実な構造からなるようにされ、内壁、外壁、及び通路形成手段を互いに冶金学的に結合させるのに十分な温度及び時間で二重壁集成体をホットプレスし、そして、通路充填犠牲手段を除去する。
請求項(抜粋):
一体の内部通路を有する二重壁構造を作る方法であって、内壁、通路形成手段、通路充填犠牲手段、及び外壁からなる二重壁集成体を組立て、内壁と外壁とは互いに相補的であり、両者の間に配置され接触する前記通路形成手段により隔てられて少なくとも一つの通路を画成し、前記通路充填犠牲手段は前記通路形成手段に相補的であり、前記少なくとも一つの通路を充填するために前記通路形成手段内に配置されて、二重壁集成体が実質的に中実な構造からなるようにされ、前記内壁、前記外壁、及び前記通路形成手段を互いに冶金学的に結合させるのに十分な温度及び時間で前記二重壁集成体をホットプレスし、次いで、前記通路充填犠牲手段を除去する、ことからなる方法。
IPC (3件):
F23R 3/42 ,  F02C 7/00 ,  B23K 20/00 340
FI (5件):
F23R 3/42 Z ,  F23R 3/42 E ,  F02C 7/00 D ,  F02C 7/00 C ,  B23K 20/00 340
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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