特許
J-GLOBAL ID:200903058416286152
スラリー反応器への触媒小粒子の添加
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
河備 健二
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-582500
公開番号(公開出願番号):特表2002-530472
出願日: 1999年10月29日
公開日(公表日): 2002年09月17日
要約:
【要約】平均粒径20または10ミクロン未満の小粒径触媒は、炭化水素液体と接触した際に凝集するが、初めに触媒粒子と一種以上の非酸性の液体極性含酸素化合物とからなる混合物を形成することによって炭化水素液体に容易に分散される。極性含酸素化合物は、アルコール、ケトン、エステル、エーテルまたはこれらの混合物などである。混合物は、炭化水素液体と接触し、その際粒子はそこに容易に分散する。本プロセスは、新規または再生の小粒径触媒を接触水素処理プロセスのスラリーに添加するのに有用である。スラリーは、反応性のフィッシャー-トロプシュ炭化水素合成スラリーからなる。炭素原子1〜4個のアルコールは、フィッシャー-トロプシュスラリーに用いるのに好ましい含酸素化合物である。
請求項(抜粋):
炭化水素質原料を、微粒子水素処理触媒の存在化に水素と反応させ、その際該触媒は炭化水素質液体および該粒子からなるスラリーに分散され、また該スラリーには平均粒径20ミクロン未満の該触媒の新規または再生触媒が添加されるスラリー水素処理プロセスであって、該プロセスは、該粒子を一種以上の液体の非酸性極性含酸素化合物と接触させて、該粒子と該含酸素化合物とからなる混合物を形成し、そして該混合物を該スラリーに加えて、そこに該粒子を分散させることを特徴とするスラリー水素処理プロセス。
IPC (5件):
C10G 2/00
, B01J 23/36
, C07C 29/156
, C07C 31/04
, C07B 61/00 300
FI (5件):
C10G 2/00
, B01J 23/36 M
, C07C 29/156
, C07C 31/04
, C07B 61/00 300
Fターム (32件):
4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA02B
, 4G069BC64B
, 4G069BC65A
, 4G069BC67B
, 4G069BC69A
, 4G069CC23
, 4G069DA03
, 4G069EA01X
, 4G069EA01Y
, 4G069FB06
, 4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC41
, 4H006BA16
, 4H006BA17
, 4H006BA20
, 4H006BA55
, 4H006BA82
, 4H006BB11
, 4H006BB14
, 4H006BB15
, 4H006BB16
, 4H006BB17
, 4H006BD20
, 4H006FE11
, 4H029CA00
, 4H029DA00
, 4H039CA60
, 4H039CB20
, 4H039CL35
引用特許:
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