特許

J-GLOBAL ID：200903058422819898

塗布膜形成方法及び液晶装置の製造方法、並びに成膜装置

発明者： 唐澤 和貴
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-357948
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174819
出願日： 1999年12月16日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 膜材料コストを抑えつつ、平滑性の高い膜を基板上に形成する塗布膜形成方法及び成膜装置を提供する。【解決手段】 成膜装置100は、基板400を吸着保持するターンテーブル107と、基板400上に霧状または液滴状の膜材料109を供給するノズル103とを有している。この成膜装置100を用いた塗布膜形成方法は、基板400の膜形成領域のほぼ全面に霧状または液滴状の膜材料109を基板上に供給した後、ターンテーブル107を回転させることにより、基板上に供給された膜材料を拡散し、膜厚が均一な塗布膜を得る。

請求項（抜粋）：

(a)処理室内に水平に配置された基板の膜形成領域に、液滴状または霧状の膜材料を供給する工程と、(b)前記膜材料が供給された基板を回転させることにより、前記膜材料を前記基板上で拡散させて塗布膜を形成する工程とを具備することを特徴とする塗布膜形成方法。

IPC (5件)：

G02F 1/1337 ,  B05B 13/02 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G02F 1/13 101

FI (5件)：

G02F 1/1337 ,  B05B 13/02 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G02F 1/13 101

Fターム (26件)：

2H088EA02 ,  2H088FA02 ,  2H088FA17 ,  2H088FA20 ,  2H088FA30 ,  2H088HA03 ,  2H088MA04 ,  2H088MA18 ,  2H090HB08Y ,  2H090HC05 ,  2H090HC18 ,  2H090HD14 ,  2H090LA02 ,  4D075AA01 ,  4D075AC06 ,  4D075AC64 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB56Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DC18 ,  4D075EA05 ,  4F035AA04 ,  4F035CB05 ,  4F042AA06 ,  4F042EB02