特許
J-GLOBAL ID：200903058427764382
被覆セラミック部材及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 勝成 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-022057
公開番号（公開出願番号）：特開平5-186287
出願日： 1992年01月10日
公開日（公表日）： 1993年07月27日
要約：
【要約】【目的】 高硬度で摩擦係数の小さい非晶質の硬質炭素膜の被覆層を備え、耐摩耗性や摺動特性に優れた被覆セラミック部材及びその製造方法を提供する。【構成】 セラミック基材の表面上にイオン注入蒸着法により膜厚50〜5000Åの非晶質のシリコン中間層を設け、このシリコン中間層の上にPVD法又はプラズマCVD法により1000Å〜3μmの非晶質の硬質炭素膜を被覆してなる被覆セラミック部材。
請求項（抜粋）：
セラミック基材と、セラミック基材の表面上に直接設けられた膜厚50〜5000Åの非晶質のシリコン中間層と、シリコン中間層の上に設けられた膜厚1000Å〜3μmの非晶質の硬質炭素膜とからなることを特徴とする被覆セラミック部材。
引用特許：
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