特許

J-GLOBAL ID：200903058431055671

洗浄剤組成物

発明者： 唐木 和久 ,  白井 道雄
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-352197
公開番号（公開出願番号）：特開平7-197094
出願日： 1993年12月30日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】 フロン代替が可能で材料へのアタックがない洗浄を行う。【構成】 (CH3)3SiO(Si(CH3)2O)m Si(CH3)3(式中、mは1または2)で表わされる直鎖状ポリジメチルシロキサンに、C8 H18またはC9 H20のイソパラフィンを20〜80重量%含有した洗浄剤により洗浄する。

請求項（抜粋）：

一般式(CH3)3SiO(Si(CH3)2O)m Si(CH3)3(式中、mは0または1である。)で表われる直鎖状ポリジメチルシロキサンに飽和炭化水素を20〜80重量%含有することとを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (5件)：

C11D 7/50 ZAB ,  C11D 7/22 ,  C11D 7/24 ,  C23G 5/032 ,  C08J 7/00