特許
J-GLOBAL ID：200903058437871284
イオン源装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-320806
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168687
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【目的】 イオンビームの全範囲に亘ってイオンビームの分布を調節できるイオン源装置を提供する。【構成】 イオンビームを発生するイオン源1とそのイオンビームのターゲット9との間に、イオンビームの周方向に配置された複数の磁極10を設け、これらの磁極10の励磁電流を調節してイオンビームを整形する調節回路14を設けた。
請求項（抜粋）：
イオンビームを発生するイオン源とそのイオンビームのターゲットとの間に、イオンビームの周方向に配置された複数の磁極を設け、これらの磁極の励磁電流を調節してイオンビームを整形する調節回路を設けたことを特徴とするイオン源装置。
IPC (5件)：
H01J 37/08
, G21K 5/04
, H01J 27/02
, H01L 21/265
, H05H 1/00
