特許

J-GLOBAL ID：200903058439144720

発光素子の製造方法

発明者： 山田 裕康
出願人/特許権者： カシオ計算機株式会社
代理人 (1件)： 荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-325420
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150150
出願日： 1998年11月16日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】 スループットを向上した発光素子の製造方法を提供する。【解決手段】 支持体15の上に、カソード電極11,電子輸送層12,発光層13,正孔輸送層14を、この順序で、メタルマスクを用いない真空蒸着法にて積層する。続いて、基板10の上にアノード電極101,層間絶縁膜102を印刷により形成する。続いて、支持体15と基板10とを、それぞれの表部に形成した膜が対向する方向に貼り合わせ、サーマルヘッド21を用いてパターンとして必要な箇所に熱を加えることにより、基板10のアノード電極101,層間絶縁膜102の上に、正孔輸送層14,発光層13,電子輸送層12,カソード電極11を、この順序通りに転写して、有機EL発光部1を作製する。すなわち、メタルマスクを真空中にて用いないため、高精度な位置合わせを行う必要はないため、生産装置一つあたりの単位時間あたりの生産量、すなわちスループットは従来と比べて大幅に向上する。

請求項（抜粋）：

基板上に第1層と第2層を有する複数の層により構成される発光部を有する発光素子の製造方法において、内部に前記発光部の複数の層のうちの第1層を蒸着する第1蒸着装置及び前記発光部の複数の層のうちの第2層を蒸着する第2蒸着装置を配置し、前記第1蒸着装置及び第2蒸着装置の上方に支持体を配置した蒸着炉を設け、前記支持体の下面に前記第1蒸着装置により前記第1層を蒸着する第1層形成工程と、前記第1層が形成された前記支持体を移動する移動工程と、前記第1層が形成された前記支持体の移動後又は移動中に、引き続き前記支持体の下面に前記第1層を連続して蒸着する第1層連続形成工程と、第1層連続形成工程中に、前記第1層形成工程で形成された前記第1層に前記第2蒸着装置により第2層を蒸着する第2層形成工程と、を含むことを特徴とする発光素子の製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/24 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

H05B 33/10 ,  C23C 14/12 ,  C23C 14/24 S ,  H05B 33/14 A

Fターム (12件)：

3K007AB18 ,  3K007CA06 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03 ,  4K029AA25 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD10 ,  4K029KA01