特許
J-GLOBAL ID：200903058442873180
太陽電池モジュールの形成方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-184435
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015776
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
要約：
【要約】【課題】 電力用太陽電池モジュールの意匠的価値を向上させ、設置環境にあった太陽電池モジュールの形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】 結晶系シリコン基板の表面に反応性イオンエッング法で凹凸を形成した太陽電池セルを複数枚配設する太陽電池モジュールの形成方法であって、上記太陽電池セルの表面に反応性イオンエッチングを用いて凹凸を形成する際に、マスクを用いてエッチングする部分としない部分とを設けて模様をつける。
請求項（抜粋）：
結晶系シリコン基板の表面に反応性イオンエッング法で微細な凹凸を形成した太陽電池セルを複数枚配設した太陽電池モジュールの形成方法において、前記太陽電池セルの表面に反応性イオンエッチング法で凹凸を形成する際に、マスクを用いて部分的に微細な凹凸を形成して模様をつけることを特徴とする太陽電池モジュールの形成方法。
Fターム (4件)：
5F051AA03
, 5F051GA04
, 5F051GA14
, 5F051HA07
