特許

J-GLOBAL ID：200903058447701808

高純度緻密質炭化珪素焼結体及び反射ミラー用基板とその製造方法

発明者： 木下 俊哉 ,  久保 絋
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 井上 雅生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-075766
公開番号（公開出願番号）：特開平5-246764
出願日： 1992年02月28日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、新規な炭化珪素焼結体とそれを用いて、鏡面を得ることができ、表面粗度に優れた反射ミラー用基板及びその製造方法を提供するものである。【構成】 焼結体中にアルミニウム化合物粒子の残留がなく、相対密度99.5%以上である高純度緻密質炭化珪素焼結体、前記の炭化珪素焼結体よりなり、反射面の表面粗度がRa2nm以下である炭化珪素焼結体製反射ミラー用基板。炭化珪素及びアルミニウム換算で0.35〜1.00wt%に相当するアルミニウムもしくはアルミニウム化合物よりなる混合粉末を、アルゴンガス雰囲気中で1800〜2100°C、負荷圧力10MPa以上でホットプレス焼結した後、得られた焼結体の反射面の表面粗度をRaを2nm以下に研磨する。【効果】 本発明の炭化珪素焼結体製反射ミラー用基板は、高耐熱性かつ高剛性であり、表面粗度にも優れることから、X線、レーザー光等の反射ミラー用基板を始めとして、各種光学機器に適用することができる。

請求項（抜粋）：

焼結体中にアルミニウム化合物粒子の残留がなく、相対密度99.5%以上であることを特徴とする高純度緻密質炭化珪素焼結体。

IPC (5件)：

C04B 35/56 101 ,  C04B 35/56 ,  C04B 41/88 ,  C04B 41/91 ,  G02B 5/08

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭49-007311
  
• 特公昭57-041538
  
• 特開平1-316704