特許
J-GLOBAL ID：200903058462725578
分枝したオルガノシロキサン(コ)ポリマー、その製法、その使用、これを含有する被覆組成物、これを用いて製造された成形体及び被覆及び粘着物質拒絶性皮膜の製法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-206541
公開番号（公開出願番号）：特開2003-048987
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：
【要約】【課題】 分枝したオルガノシロキサン(コ)ポリマー及びシリコーン被覆組成物用の抗ミスチング添加剤としてのその使用【解決手段】 式: Y[-CnH2n-(R2SiO)m-Ap-R2Si-G]x (I)の構造単位を含有する新規の分枝したオルガノシロキサン(コ)ポリマー、その製法、その使用、これを含有する被覆組成物、これを用いて製造された成形体及び被覆及び粘着物質拒絶性皮膜の製造法。
請求項（抜粋）：
式: Y[-CnH2n-(R2SiO)m-Ap-R2Si-G]x (I)[式中、Yは、基1個当たり炭素原子数1〜25を有する3〜10価の炭化水素基を表し、これは、酸素-、窒素-及び珪素原子の群から選択された1個以上のヘテロ原子を含有していてよく、Rは、同一又は異なるものであってよく、基1個当たり炭素原子数1〜18を有し、場合によりハロゲン化された1価の炭化水素基を表し、Aは、式: -R2Si-R2-(R2SiO)m-の基を表し、ここで、R2は、基1個当たり炭素原子数2〜30を有する2価の炭化水素基を表し、これは相互に分離された1個以上の酸素原子により中断されていてよく、Gは、式: -CfH2f-2k-Zの1価の基又は式: -CnH2n-の2価の基(この際、更なる基Yへの第二の結合が行われる)を表し、Zは、ヒドロシリル化反応でSiH-基に対して不活性であり、酸素、窒素、硼素、珪素及びチタンの群から選択された1個以上のヘテロ原子を含有していてよい、末端位の脂肪族炭素-炭素-多重結合を有しない1価の炭化水素基又は20より多い炭素原子数を有する1価のポリマー基を表し、xは3〜10の整数であり、fは2〜12の整数であり、kは0又は1であり、nは2〜12の整数であり、mは少なくとも1の整数であり、pは0又は正の整数である、但し、この分枝したオルガノシロキサン(コ)ポリマーは、平均して少なくとも1個の基Zを含有することを条件とする]の構造単位を含有する分枝したオルガノシロキサン(コ)ポリマー。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
4J035BA02
, 4J035CA02U
, 4J035CA021
, 4J035CA162
, 4J035CA172
, 4J035CA25M
, 4J035HA01
, 4J035HB05
, 4J035LA03
, 4J035LB01
, 4J038DL031
, 4J038NA10
