特許
J-GLOBAL ID：200903058467676214
エネルギー線加熱装置及びその制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-027404
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224135
出願日： 1993年01月22日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【目的】 被処理体の均一な加熱温度制御が可能な加熱ランプ式加熱装置を提供する。【構成】 本発明によれば、複数の組に組分けされた複数の加熱ランプを回転することにより、処理体に対して複数の照射軌跡、すなわち加熱照射領域を形成し、しかも各照射領域毎に加熱照射エネルギーを個別に調節することが可能である。その結果、被処理体の迅速かつ均一な加熱及び均一な温度保持を達成することができる。また、各組の加熱ランプの照射出力割合を予め複数パターン設定し、温度センサからの信号と照射出力割合のパターンとを関連づけることにより、より少ない入力によっても、処理条件に応じた正確かつ細やかな温度制御を行うことが可能である。
請求項（抜粋）：
被処理体を所定位置に位置決め可能な処理室と、その処理室の壁部の少なくとも一部を構成する透過窓と、その透過窓を介して前記被処理体に対してエネルギー線を照射するように構成されたエネルギー線発生源とを備えたエネルギー線加熱装置において、前記エネルギー線発生源が回転テーブルに設けられた複数の加熱手段から成り、それらの複数の加熱手段は複数の組に組み分けされ、前記回転テーブルを回動することにより前記加熱手段の各組がその組ごとに前記被処理体の別個の照射領域に対してエネルギー線を照射するように構成され、前記加熱手段の各組毎にその照射出力を調節することが可能であることを特徴とする、エネルギー線加熱装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/203
