二帯域短パルス高輝度光源装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-103039
公開番号（公開出願番号）：特開2007-281066
出願日： 2006年04月04日
公開日（公表日）： 2007年10月25日
要約：

【課題】比較的小型の加速器装置を利用して、ほぼ同時かつ同方向に二つの異なる波長帯の短パルス高輝度光ビームを得ることができる二帯域短パルス高輝度光源を提供することを目的とする。【解決手段】二帯域短パルス高輝度光源装置は、大電荷量の線形加速器を用いた相対論的電子ビームに大出力短パルスレーザーを衝突させるコンプトン散乱により準単色の硬X線ビームを発生させ、前記電子ビームを周期長の短いアンジュレータで短パルスレーザーから分離した一部分と相互作用させてバンチスライス法によるテラヘルツ光を発生させたことを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

大電荷量の線形加速器を用いて相対論的電子ビームに大出力短パルスレーザーを衝突させるコンプトン散乱により準単色の硬X線ビームを発生させ、前記電子ビームを周期長の短いアンジュレータで短パルスレーザーから分離した一部分と相互作用させてバンチスライス法によるテラヘルツ光を発生させたことを特徴とする二帯域短パルス高輝度光源装置。

IPC (5件)：

H01S 1/00 , G21K 5/02 , H05H 9/00 , H05H 13/04 , H05G 2/00

FI (6件)：

H01S1/00 , G21K5/02 X , H05H9/00 A , H05H13/04 F , H05H13/04 U , H05G1/00 J

Fターム (9件)：

2G085AA03 , 2G085BA14 , 2G085DA03 , 2G085DB01 , 2G085DB02 , 2G085DB08 , 4C092AA02 , 4C092AC01 , 4C092AC08

引用特許：

審査官引用 (1件)

マルチバンチレーザ発生装置及び発生方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-175532 出願人：住友重機械工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (3件)

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