特許
J-GLOBAL ID：200903058472971011
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲岡 耕作
, 川崎 実夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-084502
公開番号（公開出願番号）：特開2006-269668
出願日： 2005年03月23日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
【課題】薬液による不所望なエッチングを低減して、薬液処理の品質を向上する。 【解決手段】この基板処理装置は、薬液タンク25と、処理対象の基板Wを保持するスピンチャック12と、薬液タンク25からスピンチャック12に保持されている基板Wへと薬液を導く薬液供給路4,21とを備えている。薬液供給路4には、薬液中の溶存酸素量を低減する第1および第2脱気ユニット5,10が介装されている。薬液タンク25には、不活性ガス供給路40から不活性ガスが供給され、その内部が不活性ガス雰囲気に保持されるようになっている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に薬液を供給して当該基板を処理する基板処理装置であって、
薬液を貯留するための薬液タンクと、
処理対象の基板を保持する基板保持部と、
前記薬液タンクから前記基板保持部に保持されている基板へと薬液を導く薬液供給路と、
この薬液供給路に介装され、前記薬液中の溶存酸素量を低減する脱気ユニットとを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304
, H01L 21/306
H01L21/304 648K
, H01L21/304 643A
, H01L21/304 648Z
, H01L21/306 R
5F043DD13
, 5F043EE07
, 5F043EE25
, 5F043EE28
, 5F043EE30
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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