特許
J-GLOBAL ID：200903058480785928
半導体製造用の超高純度化学薬品の希釈方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-097636
公開番号（公開出願番号）：特開平10-335302
出願日： 1998年04月09日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 半導体の製造プロセスにおいて使用される超高純度の化学薬品の希釈溶液の濃度を、正確に調整するための方法及び装置を提供する。【解決手段】 所定量の超純水14と濃縮状態の純度Pの超高純度化学薬品2とをミキシングタンク7内で混合して、前記化学薬品に対して最終的に要求される希釈濃度よりも高い濃度の混合溶液を生成し、その混合溶液のタイターを測定する。前記混合溶液に、要求されるタイターを得るために必要な理論値に等しい量の超純水を更に加えて、希釈溶液8を生成する。希釈された前記化学薬品が10から50回程度循環されるまで、エジェクタ9を用いてミキシングタンク7内で希釈溶液8を攪拌し、希釈された前記化学薬品が十分に均一に分散して、前記希釈溶液8の全部分でタイターが実質的に一定になる様にする。前記希釈溶液8のタイターをチェックした後、第三のタンク36に送って貯蔵する。
請求項（抜粋）：
半導体製造用の超高純度化学薬品を希釈する方法であって、半導体の製造プロセスにおいて使用される際に要求される純度に相当する所定の純度Pを備えた前記化学薬品を、濃縮状態で収容する第一のタンクと、少なくとも前記純度Pと同等な純度を備えた超純水の供給手段と、濃縮状態の前記化学薬品と前記超純水とを混合して、少なくとも前記純度Pと同等な純度を備えた前記化学薬品の希釈溶液を生成する第二のタンクと、目標のタイターに調整された前記化学薬品の希釈溶液を貯蔵する第三のタンクと、を備えた装置を使用し、所定量の前記超純水と濃縮状態の純度Pの前記化学薬品とを混合して、前記化学薬品に対して最終的に要求される希釈濃度よりも高い濃度の混合溶液を生成し、その混合溶液のタイターを測定する第一の工程と、前記混合溶液に、要求されるタイターを得るために必要な理論値と同等あるいはそれ以下の量の前記超純水を更に加えて、希釈溶液を生成する第二の工程と、前記希釈溶液が少なくとも三回循環されるまで前記希釈溶液を攪拌し、希釈された前記化学薬品が十分に均一に分散して、前記希釈溶液の全部分でタイターが実質的に一定になる様にする第三の工程と、前記希釈溶液のタイターをチェックした後、第三のタンクに送って貯える第四の工程と、を備えたことを特徴とする半導体製造用の超高純度化学薬品の希釈方法。
IPC (5件)：
H01L 21/304 648
, G05D 11/02
, G05D 21/00
, B01F 3/08
, B01F 15/04
H01L 21/304 648 K
, G05D 11/02
, G05D 21/00 A
, B01F 3/08 Z
, B01F 15/04 A
