特許

J-GLOBAL ID：200903058487656155

所定の導電性パターンが施された製品及びその製造方法

発明者： 上山 健一
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-044386
公開番号（公開出願番号）：特開平7-252440
出願日： 1994年03月15日
公開日（公表日）： 1995年10月03日
要約：

【要約】【目的】 吸着力が強く、所望の導電性パターンが簡単に得られる技術を提供することを目的とする。【構成】 基体に対してカチオン性基(又はアニオン性基)を有する剤Aが結合されてなり、アニオン性基(又はカチオン性基)と導電性基とを分子中に有する剤Bが前記剤Aのカチオン性基(又はアニオン性基)によって選択的に固定されてなる所定の導電性パターンが施された製品。

請求項（抜粋）：

基体に対してカチオン性基(又はアニオン性基)を有する剤Aが結合されてなり、アニオン性基(又はカチオン性基)と導電性基とを分子中に有する剤Bが前記剤Aのカチオン性基(又はアニオン性基)によって選択的に固定されてなることを特徴とする所定の導電性パターンが施された製品。

IPC (4件)：

C09D 5/24 PQW ,  G02F 1/1345 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/3205