特許

J-GLOBAL ID：200903058489925692

酢酸の製造方法

発明者： 鈴木 俊郎 ,  吉川 裕子 ,  安部 建一 ,  佐野 健一
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 寺田 實
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-065161
公開番号（公開出願番号）：特開平7-089896
出願日： 1994年04月01日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：

【要約】【目的】 酢酸をエチレンより気相接触反応により一段で合成する方法において空時収率が高く,二酸化炭素の副生を著しく抑え,触媒寿命の長い方法を得る。【構成】 (1)(a)金属パラジウムと(b)ヘテロポリ酸およびそれらの塩から選ばれた少なくとも1種の化合物を含有する触媒の存在下に、エチレンと酸素とを反応させて、酢酸を製造する方法。(2)(a)金属パラジウム(b)ヘテロポリ酸及びそれらの塩から選ばれた少なくとも1種の化合物、および(c)周期律表の11族、14族金属、15族金属及び16族金属よりなる群から選ばれた少なくとも1種の元素を含有する触媒の存在下に、エチレンと酸素とを反応させて、酢酸を製造する方法。

請求項（抜粋）：

(a)金属パラジウムと(b)ヘテロポリ酸およびそれらの塩から選ばれた少なくとも1種の化合物を含有する触媒の存在下に、エチレンと酸素とを反応させることを特徴とする酢酸の製造方法。

IPC (5件)：

C07C 53/08 ,  B01J 23/652 ,  B01J 27/188 ,  C07C 51/25 ,  C07B 61/00 300