特許
J-GLOBAL ID：200903058512755627
薄膜作製装置および薄膜の作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-289664
公開番号（公開出願番号）：特開平9-133618
出願日： 1995年11月08日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：
【要約】【課題】 イオン研磨法を利用した、透過型電子顕微鏡で観察できる薄膜試料の作製方法および作製装置であって、イオンダメージ層のない高分解能観察、EDX分析に適した薄膜試料を作製できる方法および装置の提供。【解決手段】 予め所定の厚さに粗研摩した試料を、真空中に保持し、該試料を片面あるいは両面から、微少領域に収束されたイオンビームを照射し、所定の箇所およびその周辺部を薄膜化したのち、その場所で、該箇所およびその周辺部に化学研磨液の噴霧を噴射し、化学研磨を行うことにより、イオンダメージ層のない高分解能観察およびEDX分析に適した透過電子顕微鏡観察用薄膜を得る。
請求項（抜粋）：
真空容器と、イオン研摩装置および化学研摩装置からなる薄膜作製装置であって、前記イオン研摩装置は、該真空容器内に試料保持具と、該保持具と相対する位置に設置したイオン銃と、該イオン銃と該保持具との間に設置した引出し・加速電極と、あるいはさらにイオンビームの集束装置および偏向装置とを設けてなるものであり、前記化学研摩装置は、該真空容器外に設置された化学研摩液貯蔵タンクと、該試料保持具に保持された試料に化学研摩液を吹き付けるように該真空容器内に設けられたノズルとからなり、該タンクと該ノズルは配管を介して連結され、該配管には流量制御用バルブを設けてなることを特徴とした薄膜作製装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 1/28 F
, G01N 1/32 A
