特許
J-GLOBAL ID：200903058532091601
保護膜構造
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-189742
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036210
出願日： 1992年07月16日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 基材との密着性が良好で耐摩耗性の向上を図った保護膜構造の提供。【構成】 Mn-Znフェライト等の基材上に設けられた窒化ホウ素からなる保護層を具備する保護膜構造であって前記窒化ホウ素からなる保護層の下地層に、炭素を主成分とするアモルファス層が設けられ、前記下地層と基材の間にSi、Cr、Ti、Zr、Ta、Hf、V、NiCrからなる群から選ばれた1種又は2種以上の元素からなる中間層が形成されてなることを特徴とする保護膜構造。【効果】 基材と保護膜構造の間の各膜間における密着性の向上、及び耐摩耗性の向上を図ることができる。
請求項（抜粋）：
Mn-Znフェライト等の基材上に設けられた窒化ホウ素からなる保護層を具備する保護膜構造であって、前記窒化ホウ素からなる保護層の下地層に、炭素を主成分とするアモルファス層が設けられ、前記下地層と基材の間にSi、Cr、Ti、Zr、Ta、Hf、V、NiCrからなる群から選ばれた1種又は2種以上の元素からなる中間層が形成されてなることを特徴とする保護膜構造。
IPC (3件)：
G11B 5/127
, B41J 2/335
, G11B 5/187
