特許
J-GLOBAL ID：200903058533651660
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-185818
公開番号（公開出願番号）：特開平7-041952
出願日： 1993年07月28日
公開日（公表日）： 1995年02月10日
要約：
【要約】【目的】電極や放電室壁からの、被処理物に対する汚染を低減させたバケット型プラズマ処理装置を提供する。【構成】まず、放電室1を図示されていない排気系により1×10-6Torr以下に排気する。そしてここに主ガス導入系2から反応性ガスを導入し、放電室圧力を1×10-5〜1×10-3Torrとしたところで、被処理物6の後方かつ周囲に配置された陽極3と、被処理物6の前方中央に置かれた陰極4との間に、直流電源5によって直流電圧を30〜100V印加して放電させる。陰極4と被処理物6の間には石英製の遮蔽物11が設置されている。石英製の放電室壁8及び陽極の外側に配置された永久磁石9によって放電室内部には、磁力線10で示されるバケット型磁場が形成されていて、生成されたプラズマを閉じ込めており、支持台7上の被処理物6をエッチングする。
請求項（抜粋）：
ガスを導入する手段及び排出する手段を備えた放電室と、前記放電室内において直流放電を行う陽極及び陰極と、前記直流放電により生成されるプラズマを磁気的に閉じ込める手段と、前記プラズマに面して被処理物を保持する手段とを有するプラズマ処理装置であって、前記プラズマを磁気的に閉じ込める手段として前記放電室の内または外に複数の永久磁石列を備え、前記放電室内にバケット型磁場配位を形成しているプラズマ処理装置において、陽極或いは陰極のどちらか一方の電極を、前記被処理物の被処理面から見込まれない空間領域内かつ前記被処理物の周囲に配置し、他方の電極を被処理面側に配置したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
