特許
J-GLOBAL ID:200903058535889620
光記録媒体の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-072073
公開番号(公開出願番号):特開2001-256684
出願日: 2000年03月15日
公開日(公表日): 2001年09月21日
要約:
【要約】【課題】 超解像を用いた場合でも十分なC/Nを有し、実用に適する光記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】 スパッタ装置内に複数のターゲットを基板に対向配置して、この複数のターゲットをスパッタすることにより、この基板上に複数の層を形成するる光記録媒体の製造方法において、前記複数のターゲットと前記基板との距離は、100mm〜250mmの範囲にある。
請求項(抜粋):
基板上にマスク層を形成した後、所定割合のZnSとSiO2とを含むターゲット、AgInSbTeターゲット及びAlターゲットを用意して、スパッタ装置内にこれらのターゲットを基板に所定の間隔を有して対向配置し、次に、Arガスを導入し、所定のガス圧にした後、これらの複数のターゲットをスパッタして前記マスク層上に所定割合のZnSとSiO2とからなる第1誘電体膜、AgInSbTeからなる相変化記録層、所定割合のZnSとSiO2とからなる第2誘電体膜、Alからなる反射膜を順次形成する光記録媒体の製造方法において、前記複数のターゲットと前記基板との距離は、100mm〜250mmの範囲にあることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
IPC (8件):
G11B 7/26 531
, B41M 5/26
, C23C 14/34
, G11B 7/24 511
, G11B 7/24 534
, G11B 7/24
, G11B 7/24 535
, G11B 7/24 538
FI (10件):
G11B 7/26 531
, C23C 14/34 C
, C23C 14/34 N
, G11B 7/24 511
, G11B 7/24 534 K
, G11B 7/24 534 L
, G11B 7/24 534 N
, G11B 7/24 535 E
, G11B 7/24 538 E
, B41M 5/26 X
Fターム (40件):
2H111EA04
, 2H111EA12
, 2H111EA23
, 2H111EA32
, 2H111EA37
, 2H111FA21
, 2H111FA25
, 2H111FA27
, 2H111FB09
, 2H111FB12
, 2H111FB17
, 2H111FB21
, 2H111GA03
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA03
, 4K029BA22
, 4K029BA46
, 4K029BA51
, 4K029BA64
, 4K029BB02
, 4K029BD12
, 4K029CA05
, 4K029DC03
, 4K029DC04
, 4K029DC16
, 4K029EA00
, 4K029JA01
, 5D029JA01
, 5D029LA14
, 5D029LA15
, 5D029LA17
, 5D029LB01
, 5D029LC14
, 5D029MA39
, 5D121AA03
, 5D121AA04
, 5D121AA05
, 5D121EE03
, 5D121EE09
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