特許
J-GLOBAL ID：200903058538763873
マーク位置識別装置およびマーク位置識別方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-144536
公開番号（公開出願番号）：特開平8-339952
出願日： 1995年06月12日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：
【要約】【目的】 検出されたマークの位置と実際のマークの位置との間の誤差が小さいマーク位置識別装置を提供する。【構成】 シリコン基板上に形成されたアライメントマークを電子ビームにより走査し、その反射信号波形に基づいてアライメントマークの中心位置を識別する装置において、電子ビームの太さであるビーム寸法と、検出されたマークの位置と実際のマークの位置とのずれ量との間には図示される関係が成立する。すなわちビーム寸法が小さければ検出位置のずれ量は小さい。本発明では複数の寸法を有する電子ビームにより複数回アライメントマークの検出を行ない、その各々の検出により得られたマーク検出位置から寸法が0の電子ビームにより走査が行なわれたときのマーク検出位置が算出される。
請求項（抜粋）：
対象物に形成されたマークの位置を識別するマーク位置識別装置であって、第1のビーム寸法を有するビームによって前記マークを走査し、前記マークから反射される反射信号波形を検出する第1の検出手段と、第2のビーム寸法を有するビームによって前記マークを走査し、前記マークから反射される反射信号波形を検出する第2の検出手段と、前記第1の検出手段により得られた反射信号波形および前記第2の検出手段により得られた反射信号波形に基づいて、前記マークの位置を識別する識別手段とを備えた、マーク位置識別装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 K
, H01L 21/30 502 M
