特許
J-GLOBAL ID：200903058546414080
半導体製造用材料ガス検出装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐当 弥太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-237242
公開番号（公開出願番号）：特開平5-052754
出願日： 1991年08月22日
公開日（公表日）： 1993年03月02日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造用材料ガスの検出装置において、 作業環境中に混在するガス、溶剤等の成分に全く干渉されずに、選択性の向上を図る。【構成】 被検出ガスを、加熱分解または燃焼により微粒子粉末に分解し、ダストセンサによりその濃度を測定し、その出力を電気的信号として取り出す
請求項（抜粋）：
被検出ガスを、加熱分解または燃焼により微粒子粉末に分解し、ダストセンサによりその濃度を測定し、その出力を電気的信号として取り出すことを特徴とする半導体製造用材料ガス検出装置。
IPC (5件)：
G01N 21/75
, C07F 7/04
, G01N 15/06
, G01N 21/53
, G08B 23/00
