特許

J-GLOBAL ID：200903058551186095

高周波誘導加熱コイル装置

発明者： 西澤 潤一 ,  澤藤 裕
出願人/特許権者： 財団法人半導体研究振興会 ,  東北特殊鋼株式会社
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-202312
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064354
出願日： 1994年08月26日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：

【要約】【目的】 多周波加熱を容易とし、加熱深度を複数同時に選択できるようにもする。【構成】 結晶の加熱域周囲に配置される複数の誘導加熱コイルとともに、この誘導加熱コイルにより誘導電流が誘起されるコンセントレータを加熱域周囲に備えている高周波誘導加熱コイル装置であって、コンセントレータは高導電率材料よりなり、形状は一つ以上のスリットを有するか、あるいは、電気的に絶縁された独立した要素から構成され、個々の一次コイル(i1 )(i2 )の間に少なくともコンセントレータ(c)の一部分が位置し、複数の一次コイル(i1 )(i2 )にそれぞれ異なる周波数の高周波電流を流し、それらの高周波電流をコンセントレータ(c)において合成する。

請求項（抜粋）：

結晶の加熱域周囲に配置される複数の誘導加熱コイルとともに、この誘導加熱コイルにより誘導電流が誘起されるコンセントレータを加熱域周囲に備えている高周波誘導加熱コイル装置であって、コンセントレータは高導電率材料よりなり、形状は一つ以上のスリットを有するか、あるいは、電気的に絶縁された独立した要素から構成され、個々の一次コイルの間に少なくともコンセントレータの一部分が位置し、複数の一次コイルにそれぞれ異なる周波数の高周波電流を流し、それらの高周波電流をコンセントレータにおいて合成することを特徴とする高周波誘導加熱コイル装置。

IPC (2件)：

H05B 6/10 331 ,  C30B 13/20