特許

J-GLOBAL ID：200903058562352329

NF3 系排ガス処理装置

発明者： 大江 峻 ,  松田 俊範 ,  板谷 良平
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-013263
公開番号（公開出願番号）：特開平6-226032
出願日： 1993年01月29日
公開日（公表日）： 1994年08月16日
要約：

【要約】【構成】 ガス流通空間により連結されている、ガス導入口とガス導出口を具備する絶縁性管状容器の外側に、誘導結合方式の高周波放電用電極を設けて構成した放電管と、該放電管の外側に設けた、ガス流通方向に対し直角方向に直流又は交流磁界を印加する磁界印加装置と、該電極と接続される高周波放電用電源と、からなることを特徴とするフッ素系排ガス放電処理装置。【効果】 誘導結合方式の高周波放電用電極を採用することで、電極がプラズマ領域内でなく、その外に配置されている為、フッ素ラジカル、フッ素イオン等による電極の損傷、消耗がなく、更に磁界印加装置の付加により反射電力を抑制できる為、排ガス中に含まれる未反応NF3 を減圧下で効果的、かつ実用的にプラズマ処理できる。

請求項（抜粋）：

ガス流通空間により連結されている、ガス導入口とガス導出口を具備する絶縁性管状容器の外側に、誘導結合方式の高周波放電用電極を設けて構成した放電管と、該放電管の外側に設けた、ガス流通方向に対し直角方向に直流又は交流磁界を印加する磁界印加装置と、該電極と接続される高周波放電用電源と、からなることを特徴とするフッ素系排ガス放電処理装置。

IPC (4件)：

B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 128 ,  B01D 53/34 134