特許

J-GLOBAL ID：200903058572982347

反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体の製造法

発明者： 藤沢 博 ,  山中 祥道 ,  出口 義国
出願人/特許権者： 鐘淵化学工業株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-257333
公開番号（公開出願番号）：特開平8-100028
出願日： 1994年09月28日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【構成】ヒドロシリル化反応を密閉系で、かつ比較的高い温度で行うことにより、反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体を製造する。オレフィン基を有するイソブチレン系重合体とヒドロシラン化合物とのヒドロシリル化反応を、密閉系で、かつ反応温度40°C以上で行うことにより、反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体を製造する。【効果】 反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体を製造する際に用いる高価な白金錯体触媒の使用量を低減することができ、その結果製造原価を下げ、より安価な製品を市場に提供することができる。

請求項（抜粋）：

一般式(I):【化1】〔式中、R1、R2、R3は水素原子又は炭素数1〜5の1価の有機基を示し、同じであっても異なっていてもよい。R4は炭素数1〜5の1価の有機基を示し、aは0〜2の整数であり、R4が2個以上となる場合は、同じであっても異なっていてもよい。Xはハロゲン原子、アルコキシ基又はオルガノシロキシ基を示し、2個以上となる場合は同じであっても異なっていてもよい。〕又は一般式(II):【化2】〔式中、R1、R2、R3、R4、Xおよびaは上記に同じ。〕で表される反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体を密閉系でのヒドロシリル化反応により得ることを特徴とする反応性ケイ素基を有するイソブチレン系重合体の製造法。

IPC (2件)：

C08F 10/10 MJG ,  C08F 8/42 MFG

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-197509
  
• 特開昭64-038407
  
• 特開平1-197509
  
• 特開昭64-038407