特許

J-GLOBAL ID：200903058574749208

ホトプレートの製造方法

発明者： ▲高▼橋 伯夫
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-020434
公開番号（公開出願番号）：特開平7-230162
出願日： 1994年02月17日
公開日（公表日）： 1995年08月29日
要約：

【要約】【目的】 ホトプレートの製造方法に関し、発塵の少ない製造方法の実用化を目的とする。【構成】 石英基板1の上に金属遮光膜を形成した後、この石英基板1の周辺領域でパターン形成を行なわない領域に剥離が可能な突起2を設け、レジストをスピンコートして突起2の存在により金属遮光膜が局所的に露出しているレジスト膜3を作り、露出している金属遮光膜をアースに接続した後、レジスト膜3に電子ビームを照射してパターンの描画を行なうことを特徴としてホトマスクを形成する。

請求項（抜粋）：

石英基板(1)上に膜形成して得た金属遮光膜の上にレジストを被覆し、該レジストに電子ビームを走査してパターンを描画して後、現像してレジストパターンを作り、露出している金属遮光膜をエッチングして得るホトプレートの製造方法において、前記石英基板(1)上に金属遮光膜を形成した後、該石英基板(1)の周辺領域でパターン形成を行なわない領域に剥離が可能な突起(2)を設け、レジストをスピンコートして前記突起(2)の存在により金属遮光膜が局所的に露出しているレジスト膜(3)を作り、露出している金属遮光膜をアースに接続した後、前記レジスト膜(3)に電子ビームを走査してパターンの描画を行なうことを特徴とするホトプレートの製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 541 P ,  H01L 21/30 541 Z