特許
J-GLOBAL ID：200903058585711660
パターン投影方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-268904
公開番号（公開出願番号）：特開平7-122478
出願日： 1993年10月27日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 エキシマ・レーザ・ステッパを用いてマスク上の微細パターンを投影する場合の、焦点深度のパターン依存性、照度低下、照度ムラを解消する。【構成】 エキシマ・レーザ光をビーム・スプリッタ・ユニットを用いて単位ビームB1〜B4に4分割し、これをプリズム・ユニットを用いて再び重ね合わせる際の重ね合わせ量を最適化する。有効光源面内に4つの最大光強度M領域と、これらに囲まれ、各ビームからの光の滲み出しにより所定の光強度を持つ中央領域Cを形成する。【効果】 繰り返しパターンについては斜方照明と同等の焦点深度拡大効果が得られ、かつ中央領域Cに存在する光により孤立パターンに対しても効果が得られる。遮光フィルタを用いないので、照度の低下やムラが生じない。マスクの設計を変更する必要がない。
請求項（抜粋）：
微細パターンが形成されたマスクを露光光を用いて照明し、該マスクの透過光を投影光学系の瞳に入射させて該微細パターンの像を基板上に投影するパターン投影方法において、前記瞳の中心領域に所定の光強度、該中心領域の周辺に配される複数の領域に最大光強度、該複数の領域を連結する領域に該最大光強度よりも低い光強度を配した光強度分布を達成し得る有効光源を用いて前記照明を行うことを特徴とするパターン投影方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 B
, H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 526 A
