特許

J-GLOBAL ID：200903058589904331

ペルオキソ二硫酸塩の製造方法

発明者： 岸 剛陸 ,  田中 穂積 ,  錦 善則 ,  関本 正生 ,  脇田 修平 ,  古田 常人
出願人/特許権者： ペルメレック電極株式会社 ,  クロリンエンジニアズ株式会社
代理人 (1件)： 森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-259218
公開番号（公開出願番号）：特開2004-099914
出願日： 2002年09月04日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】従来から行われている硫酸イオンや硫酸水素イオンからのペルオキソ二硫酸塩を電解による製造用として構造がシンプルな無隔膜電解槽を使用すると、生成物であるペルオキソ二硫酸塩が陰極還元で分解されて電流効率が低下する。【解決手段】無隔膜電解槽1中で、硫酸イオン及び/又は硫酸水素イオンを含有する電解液7を電解してペルオキソ二硫酸塩を製造する際に、前記電解液中に6価クロムイオンを溶解させると、生成するペルオキソ二硫酸塩の還元分解がこの6価のクロムイオンにより抑制され、高電流効率が実現する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

陰極及び導電性ダイヤモンドを担持した陽極を有する無隔膜電解槽中で、硫酸イオン及び/又は硫酸水素イオンを含有する電解液を電解してペルオキソ二硫酸塩を製造する方法において、前記電解液中に6価クロムイオンを存在させることを特徴とするペルオキソ二硫酸の製造方法。

IPC (3件)：

C25B1/28 ,  C01B15/08 ,  C25B11/12

FI (3件)：

C25B1/28 ,  C01B15/08 ,  C25B11/12

Fターム (14件)：

4K011AA01 ,  4K011AA10 ,  4K011AA11 ,  4K011AA29 ,  4K011CA04 ,  4K011CA05 ,  4K011DA11 ,  4K021AB15 ,  4K021BA04 ,  4K021BA16 ,  4K021BA17 ,  4K021DA03 ,  4K021DA13 ,  4K021DC15

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 過硫酸溶解水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-374304   出願人：ペルメレック電極株式会社
• 特公昭37-015104
  
• 特開昭50-056395
  
• 特開昭57-198275